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亳州硅片项目投资计划书范文参考

文档格式:DOCX| 143 页|大小 137.14KB|积分 299|2022-09-26 发布|文档ID:156273946
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  • 泓域咨询/亳州硅片项目投资计划书亳州硅片项目投资计划书xx集团有限公司目录第一章 项目基本情况 8一、 项目名称及项目单位 8二、 项目建设地点 8三、 可行性研究范围 8四、 编制依据和技术原则 8五、 建设背景、规模 10六、 项目建设进度 11七、 环境影响 11八、 建设投资估算 11九、 项目主要技术经济指标 12主要经济指标一览表 12十、 主要结论及建议 14第二章 项目建设单位说明 15一、 公司基本信息 15二、 公司简介 15三、 公司竞争优势 16四、 公司主要财务数据 18公司合并资产负债表主要数据 18公司合并利润表主要数据 18五、 核心人员介绍 19六、 经营宗旨 20七、 公司发展规划 20第三章 项目建设背景、必要性 22一、 陶瓷基板 22二、 掩膜版 23三、 湿电子化学品 27四、 大力推进区域开放合作 29第四章 市场预测 33一、 封装材料 33二、 硅片 35三、 半导体材料行业规模 41第五章 建筑工程可行性分析 43一、 项目工程设计总体要求 43二、 建设方案 43三、 建筑工程建设指标 44建筑工程投资一览表 44第六章 选址方案分析 46一、 项目选址原则 46二、 建设区基本情况 46三、 增强企业技术创新能力 48四、 完善科技创新体制机制 49五、 项目选址综合评价 51第七章 运营管理模式 52一、 公司经营宗旨 52二、 公司的目标、主要职责 52三、 各部门职责及权限 53四、 财务会计制度 56第八章 法人治理 60一、 股东权利及义务 60二、 董事 67三、 高级管理人员 72四、 监事 74第九章 项目节能方案 77一、 项目节能概述 77二、 能源消费种类和数量分析 78能耗分析一览表 78三、 项目节能措施 79四、 节能综合评价 80第十章 组织机构、人力资源分析 82一、 人力资源配置 82劳动定员一览表 82二、 员工技能培训 82第十一章 安全生产 84一、 编制依据 84二、 防范措施 85三、 预期效果评价 89第十二章 技术方案 91一、 企业技术研发分析 91二、 项目技术工艺分析 94三、 质量管理 95四、 设备选型方案 96主要设备购置一览表 97第十三章 投资方案分析 98一、 投资估算的依据和说明 98二、 建设投资估算 99建设投资估算表 103三、 建设期利息 103建设期利息估算表 103固定资产投资估算表 104四、 流动资金 105流动资金估算表 106五、 项目总投资 107总投资及构成一览表 107六、 资金筹措与投资计划 108项目投资计划与资金筹措一览表 108第十四章 经济效益 110一、 基本假设及基础参数选取 110二、 经济评价财务测算 110营业收入、税金及附加和增值税估算表 110综合总成本费用估算表 112利润及利润分配表 114三、 项目盈利能力分析 114项目投资现金流量表 116四、 财务生存能力分析 117五、 偿债能力分析 117借款还本付息计划表 119六、 经济评价结论 119第十五章 风险防范 120一、 项目风险分析 120二、 项目风险对策 122第十六章 招标及投资方案 125一、 项目招标依据 125二、 项目招标范围 125三、 招标要求 126四、 招标组织方式 126五、 招标信息发布 128第十七章 总结评价说明 129第十八章 附表 131主要经济指标一览表 131建设投资估算表 132建设期利息估算表 133固定资产投资估算表 134流动资金估算表 134总投资及构成一览表 135项目投资计划与资金筹措一览表 136营业收入、税金及附加和增值税估算表 137综合总成本费用估算表 138利润及利润分配表 139项目投资现金流量表 140借款还本付息计划表 141第一章 项目基本情况一、 项目名称及项目单位项目名称:亳州硅片项目项目单位:xx集团有限公司二、 项目建设地点本期项目选址位于xx(待定),占地面积约61.00亩。

    项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设三、 可行性研究范围按照项目建设公司的发展规划,依据有关规定,就本项目提出的背景及建设的必要性、建设条件、市场供需状况与销售方案、建设方案、环境影响、项目组织与管理、投资估算与资金筹措、财务分析、社会效益等内容进行分析研究,并提出研究结论四、 编制依据和技术原则(一)编制依据1、国家建设方针,政策和长远规划;2、项目建议书或项目建设单位规划方案;3、可靠的自然,地理,气候,社会,经济等基础资料;4、其他必要资料二)技术原则1、项目建设必须遵循国家的各项政策、法规和法令,符合国家产业政策、投资方向及行业和地区的规划2、采用的工艺技术要先进适用、操作运行稳定可靠、能耗低、三废排放少、产品质量好、安全卫生3、以市场为导向,以提高竞争力为出发点,产品无论在质量性能上,还是在价格上均应具有较强的竞争力4、项目建设必须高度重视环境保护、工业卫生和安全生产环保、消防、安全设施和劳动保护措施必须与主体装置同时设计,同时建设,同时投入使用污染物的排放必须达到国家规定标准,并保证工厂安全运行和操作人员的健康。

    5、将节能减排与企业发展有机结合起来,正确处理企业发展与节能减排的关系,以企业发展提高节能减排水平,以节能减排促进企业更好更快发展6、按照现代企业的管理理念和全新的建设模式进行规划建设,要统筹考虑未来的发展,为今后企业规模扩大留有一定的空间7、以经济救益为中心,加强项目的市场调研按照少投入、多产出、快速发展的原则和项目设计模式改革要求,尽可能地节省项目建设投资在稳定可靠的前提下,实事求是地优化各成本要素,最大限度地降低项目的目标成本,提高项目的经济效益,增强项目的市场竞争力8、以科学、实事求是的态度,公正、客观的反映本项目建设的实际情况,工程投资坚持“求是、客观”的原则五、 建设背景、规模(一)项目背景全球湿电子化学品通常执行SEMI国际标准,关键技术指标主要包括金属杂质、控制粒径、颗粒数、IC线宽等根据指标的不同,分为G1-G5共5个等级,等级越高精细度越高湿电子化学品在下游应用领域的标准有所不同,其中光伏和分立器件集中在G1级,面板集中在G2-G4级,集成电路对纯度要求最高,集中在G3-G5级,而且晶圆尺寸越大对纯度要求越高,12英寸晶圆制造通常需要G4-G5级全球及中国湿电子化学品市场规模呈稳步增长态势。

    根据智研咨询数据,全球湿电子化学品(通用+功能)市场规模2011年为25.3亿美元,2020年为56.8亿美元;中国湿电子化学品市场规模2011年为27.8亿元,2021年为137.8亿元,预计2022年将达到163.9亿元,2028年将达到301.7亿元二)建设规模及产品方案该项目总占地面积40667.00㎡(折合约61.00亩),预计场区规划总建筑面积67575.36㎡其中:生产工程45391.71㎡,仓储工程12649.06㎡,行政办公及生活服务设施5947.76㎡,公共工程3586.83㎡项目建成后,形成年产xxx颗硅片的生产能力六、 项目建设进度结合该项目建设的实际工作情况,xx集团有限公司将项目工程的建设周期确定为24个月,其工作内容包括:项目前期准备、工程勘察与设计、土建工程施工、设备采购、设备安装调试、试车投产等七、 环境影响本项目污染物主要为废水、废气、噪声和固废等,通过污染防治措施后,各污染物均可达标排放,并且保持相应功能区要求本项目符合各项政策和规划,本项目各种污染物采取治理措施后对周围环境影响较小从环境保护角度,本项目建设是可行的八、 建设投资估算(一)项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。

    根据谨慎财务估算,项目总投资26547.17万元,其中:建设投资19994.09万元,占项目总投资的75.32%;建设期利息405.97万元,占项目总投资的1.53%;流动资金6147.11万元,占项目总投资的23.16%二)建设投资构成本期项目建设投资19994.09万元,包括工程费用、工程建设其他费用和预备费,其中:工程费用16862.29万元,工程建设其他费用2603.78万元,预备费528.02万元九、 项目主要技术经济指标(一)财务效益分析根据谨慎财务测算,项目达产后每年营业收入56500.00万元,综合总成本费用43684.47万元,纳税总额6019.40万元,净利润9379.18万元,财务内部收益率26.41%,财务净现值12673.14万元,全部投资回收期5.53年二)主要数据及技术指标表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积㎡40667.00约61.00亩1.1总建筑面积㎡67575.361.2基底面积㎡24400.201.3投资强度万元/亩313.822总投资万元26547.172.1建设投资万元19994.092.1.1工程费用万元16862.292.1.2其他费用万元2603.782.1.3预备费万元528.022.2建设期利息万元405.972.3流动资金万元6147.113资金筹措万元26547.173.1自筹资金万元18262.073.2银行贷款万元8285.104营业收入万元56500.00正常运营年份5总成本费用万元43684.47""6利润总额万元12505.57""7净利润万元9379.18""8所得税万元3126.39""9增值税万元2583.05""10税金及附加万元309.96""11纳税总额万元6019.40""12工业增加值万元20109.53""13盈亏平衡点万元20225.88产值14回收期年5.5315内部收益率26.41%所得税后16财务净现值万元12673.14所得税后十、 主要结论及建议本期项目技术上可行、经济上合理,投资方向正确,资本结构合理,技术方案设计优良。

    本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的第二章 项目建设单位说明一、 公司基本信息1、公司名称:xx集团有限公司2、法定代表人:董xx3、注册资本:1170万元4、统一社会信用代码:xxxxxxxxxxxxx5、登记机关:xxx市场监督管理局6、成立日期:2016-8-187、营业期限:2016-8-18至无固定期限8、注册地址:xx市xx区xx9、经营范围:从事硅片相关业务(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动二、 公司简介公司按照“布局合理、产业协同、资源节约、生态环保”的原则,加强规划引导,推动智慧集群建设,带动形成一批产业集聚度高、创新能力强、信息化基础好、引导带动作用大的重点产业集群加强产业集群对外合作交流,发挥产业集群在对外产能合作中的载体作用通过建立企业跨区域交流合作机制,承担社会责任,营造和谐发展环境公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。

    搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展三、 公司竞争优势(一)自主研发优势公司在各个细分领域深入研究的同时,通过整合各平台优势,构建全产品系列,并不断进行产品结构升级,顺应行业一体化、集成创新的发展趋势通过多年积累,公司产品性能处于国内领先水平公司多年来坚持技术创新,不断改进和优化产品性能,实现产品结构升级公司结合国内市场客户的个性化需求,不断升级技术,充分体现了公司的持续创新能力在不断开发新产品的过程中,公司已有多项产品均为国内领先水平在注重新产品、新技术研发的同时,公司还十分重视自主知识产权的保护二)工艺和质量控制优势公司进口大量设备和检测设备,有效提高了精度、生产效率,为产品研发与确保产品质量奠定了坚实的基础此外,公司是行业内较早通过ISO9001质量体系认证的企业之一,公司产品根据市场及客户需要通过了产品认证,表明公司产品不仅满足国内高端客户的要求,而且部分产品能够与国际标准接轨,能够跻身于国际市场竞争中在日常生产中,公司严格按照质量体系管理要求,不断完善产品的研发、生产、检验、客户服务等流程,保证公司产品质量的稳定性三)产品种类齐全优势公司不仅能满足客户对标准化产品的需求,而且能根据客户的个性化要求,定制生产规格、型号不同的产品。

    公司齐全的产品系列,完备的产品结构,能够为客户提供一站式服务对公司来说,实现了对具有多种产品需求客户的资源共享,拓展了销售渠道,增加了客户粘性公司产品价格与国外同类产品相比有较强性价比优势,在国内市场起到了逐步替代进口产品的作用四)营销网络及服务优势根据公司产品服务的特点、客户分布的地域特点,公司营销覆盖了华南、华东、华北及东北等下游客户较为集中的区域,并在欧美、日本、东南亚等国家和地区初步建立经销商网络,及时了解客户需求,为客户提供贴身服务,达到快速响应的效果公司拥有一支行业经验丰富的销售团队,在各区域配备销售人员,建立从市场调研、产品推广、客户管理、销售管理到客户服务的多维度销售网络体系公司的服务覆盖产品服务整个生命周期,公司多名销售人员具有研发背景,可引导客户的技术需求并为其提供解决方案,为客户提供及时、深入的专业技术服务与支持公司与经销商互利共赢,结成了长期战略合作伙伴关系,公司经销网络较为稳定,有利于深耕行业和区域市场,带动经销商共同成长四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10847.328677.868135.49负债总额5895.224716.184421.41股东权益合计4952.103961.683714.08公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入25864.1220691.3019398.09营业利润6444.635155.704833.47利润总额5590.134472.104192.60净利润4192.603270.233018.67归属于母公司所有者的净利润4192.603270.233018.67五、 核心人员介绍1、董xx,中国国籍,1977年出生,本科学历。

    2018年9月至今历任公司办公室主任,2017年8月至今任公司监事2、袁xx,中国国籍,1978年出生,本科学历,中国注册会计师2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事2019年1月至今任公司独立董事3、钟xx,中国国籍,无永久境外居留权,1959年出生,大专学历,高级工程师职称2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问;2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师4、潘xx,1957年出生,大专学历1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事2018年3月至今任公司董事5、黄xx,1974年出生,研究生学历2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司;2006年8月至2011年3月,任xxx有限责任公司销售部副经理2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长;2019年8月至今任公司监事会主席6、方xx,中国国籍,无永久境外居留权,1961年出生,本科学历,高级工程师2002年11月至今任xxx总经理。

    2017年8月至今任公司独立董事7、金xx,中国国籍,无永久境外居留权,1970年出生,硕士研究生学历2012年4月至今任xxx有限公司监事2018年8月至今任公司独立董事8、韩xx,中国国籍,无永久境外居留权,1971年出生,本科学历,中级会计师职称2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监六、 经营宗旨公司经营国际化,股东回报最大化七、 公司发展规划(一)战略目标与发展规划公司致力于为多产业的多领域客户提供高质量产品、技术服务与整体解决方案,为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗二)措施及实施效果公司立足于本行业,以先进的技术和高品质的产品满足产品日益提升的质量标准和技术进步要求,为国内外生产商率先提供多种产品,为提升转换率和品质保证以及成本降低持续做出贡献,同时通过与产业链优质客户紧密合作,为公司带来稳定的业务增长和持续的收益公司通过产品和商业模式的不断创新以及与产业链企业深度融合,建立创新引领、合作共赢的模式,再造行业新格局三)未来规划采取的措施公司始终秉持提供性价比最优的产品和技术服务的理念,充分发挥公司在技术以及膜工艺技术的扎实基础及创新能力,为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。

    在近期的三至五年,公司聚焦于产业的研发、智能制造和销售,在消费升级带来的产业结构调整所需的领域积极布局致力于为多产业的多领域客户提供中高端技术服务与整体解决方案在未来的五至十年,以蓬勃发展的中国市场为核心,利用中国“一带一路”发展机遇,利用独立创新、联合开发、并购和收购等多种方法,掌握国际领先的技术,使得公司真正成为国际领先的创新型企业第三章 项目建设背景、必要性一、 陶瓷基板随着功率电子产品技术进步,散热问题已成为制约其向着大功率与轻型化方向发展的瓶颈陶瓷基板作为新兴的散热材料,具有优良电绝缘性能,高导热特性,导热性与绝缘性都优于金属基板,更适合功率电子产品封装,已成为大功率电力电子电路结构技术和互连技术的基础材料,广泛应用于LED、汽车电子、航天航空及军用电子组件、激光等工业电子领域对于陶瓷基板,需要通过其实现电气连接,因此金属化对陶瓷基板的制作而言是至关重要的一环,根据制备工艺及金属化方法不同,现阶段常见的陶瓷基板种类共有HTCC、LTCC、DPC、DBC和AMB等HTCC(HighTemperatureCo-firedCeramic,高温共烧陶瓷):属于较早发展的技术,是采用陶瓷与高熔点的W、Mo等金属图案进行共烧获得的多层陶瓷基板。

    但由于烧结温度较高使其电极材料的选择受限,且制作成本相对昂,促使了LTCC的发展;LTCC(LowTemperatureCo-firedCeramic,低温共烧陶瓷):LTCC技术共烧温度降至约850℃,通过将多个印有金属图案的陶瓷膜片堆叠共烧,实现电路在三维空间布线;DPC(DirectPlatingCopper,直接镀铜):是在陶瓷薄膜工艺加工基础上发展起来的陶瓷电路加工工艺以陶瓷作为线路的基板,采用溅镀工艺于基板表面复合金属层,并以电镀和光刻工艺形成电路;DBC(DirectBondedCopper,直接覆铜):通过热熔式粘合法,在高温下将铜箔直接烧结到Al2O3和AlN陶瓷表面而制成复合基板;AMB(ActiveMetalBrazing,活性金属钎焊):AMB是在DBC技术的基础上发展而来的,在800℃左右的高温下,含有活性元素Ti、Zr的AgCu焊料在陶瓷和金属的界面润湿并反应,从而实现陶瓷与金属异质键合与传统产品相比,AMB陶瓷基板是靠陶瓷与活性金属焊膏在高温下进行化学反应来实现结合,因此其结合强度更高,可靠性更好,极适用于连接器或对电流承载大、散热要求高的场景常用电子封装陶瓷基片材料包括氧化铝(Al2O3)、氮化铝(AlN)、氮化硅(Si3N4)、氧化铍(BeO)、氮化硼(BN)等。

    Al2O3和AlN综合性能较好,分别在低端和高端陶瓷基板市场占据主流,而Si3N4基板由于综合性能突出,在高功率、大温变电力电子器件(如IGBT)封装领域发挥重要作用从目前市场综合价格和产品性能来看,Al2O3和AlN是最常见的两种基板虽然AlN的价格是Al2O3的4倍左右,但由于其高导热性和更好的散热性能,AlN是目前最常用的基板,其次是Al2O3二、 掩膜版掩膜版(Photomask),又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游产品制造过程中图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体光掩模是用于集成电路制造工序的重要器件,通过制作光掩膜底板、绘图、显影、蚀刻以及去除光致抗蚀剂等步骤,便成功制成掩膜版在透明玻璃板表面的遮光膜上蚀刻加工了非常微细的电路图案,成为对硅晶圆复刻电路时的原版,在光刻过程中,紫外线透过掩膜版,掩膜版上的图案在经过透镜缩小之后投射到硅晶圆上,便形成了微细图案掩膜版主要由基板和遮光膜组成,其中基板又分为树脂基板、玻璃基板,玻璃基板按照材质可分为石英玻璃基板、苏打玻璃基板等,石英玻璃性能稳定、热膨胀率低,主要用于高精度掩膜版制作。

    遮光膜分为硬质遮光膜和乳胶,硬质遮光膜又分为铬、硅、氧化铁、氧化铝掩膜版从诞生之初至今,已经发展到第五代产品,分别经历了手工刻红膜、菲林版、干版、氧化铁、苏打和石英版,前四代产品有的已经被淘汰,有的仍在部分行业小范围使用,第五代苏打和石英掩膜版自20世纪70年代出现后,目前应用范围最广虽然现阶段无掩膜技术能满足一些精度要求相对较低的行业(如PCB板)中图形转移的需求,但因为其生产效率低下,所以对图形转移精度以及生产效率要求高的行业,仍然需要使用掩膜版,被快速迭代的风险低掩膜版产业链上游包括掩膜基板、光学膜、化学试剂和包装盒等辅助材料,中游为掩膜版制作,下游包括半导体(IC制造、IC封测、器件、LED芯片)、平板显示、触控和PCB等,终端应用包括消费电子、家用电器、汽车电子、物联网、医疗电子、工控等按用途分,光掩膜版可分为铬版(chrome)、干版、液体凸版和菲林其中,铬版由于精度高,耐用性好,被广泛用于IC、平板显示、PCB等行业;干版、液体凸版和菲林则主要被用于中低精度的LCD行业、PCB及IC载板等行业从下游应用来看,IC和平板显示占比最大,其中半导体占据60%,LCD占比23%,OLED占比5%,PCB占比2%。

    受益下游平板显示和半导体需求增长拉动,全球掩膜版市场规模稳步提升根据Omdia数据,2016年全球平板显示掩膜版市场规模约为671亿日元,2019年增长至1010亿日元,CAGR为14.6%,2020年受益疫情影响下滑至903亿日元,随着市场逐渐复苏,预计2022年将达到1026亿日元根据SEMI数据,2017全球半导体掩膜版市场规模为37.5亿美元,2021年增长至46.5亿美元,预计2022年将达到49.0亿美元在工艺制程上,先进制程的半导体掩膜版占比也越来越高根据SEMI数据,45nm及以下制程2017年占比仅为13%,到2018年则提升至31%,45nm及以下制程占比稳步提升而整体来看,130nm制程占比54%,仍然是目前主流制程;28-90nm制程占比33%,展望未来,先进制程掩膜版占比有望持续提升总体来说,中国掩膜版厂商产品整体偏中低端,按经营模式可分为3类:第一类是科研院所,包括中科院半导体所、微电子所、中电科13/55/47所等;第二类是独立的掩膜版制造厂商,主要有清溢光电、路维光电、中国台湾光罩等;第三类是晶圆厂自己配套生产掩膜版,主要有中芯国际、华润微(迪思微)等展望未来,掩膜版发展趋势主要有3个方向:1)精度趋向精细化:平板显示领域,显示屏的显示精度将从450PPI(PixelPerInch,每英寸像素)逐步提高到650PPI以上,对平板显示掩膜版的半导体层、光刻分辨率、最小过孔、CD均匀性、套合精度、缺陷大小、洁净度均提出了更高的技术要求。

    半导体领域,摩尔定律了继续有效,将朝着4nm及以下继续突破,这对与之配套的晶圆制造以及芯片封装掩膜版提出了更高要求,工艺制程要求将越来越高,先进制程占比有望越来越大未来掩膜版产品的精度将日趋精细化;2)尺寸趋向大型化:随着电视尺寸趋向大型化,带动面板基板逐步趋向大型化,直接决定了掩膜版产品尺寸趋向大型化;3)掩膜版厂商向上游产业链延伸:掩膜版的主要原材料为掩膜版基板,为了降低原材料采购成本,控制终端产品质量,掩膜版厂商已经开始陆续向上游产业链延伸,HOYA、LG-IT等部分企业已经具备了研磨/抛光、镀铬、光阻涂布等掩膜版全产业链的生产能力,路维光电和清溢光电则在光阻涂布方面实现了突破未来掩膜版行业内具有一定实力的企业,将逐步向上游产业链拓展三、 湿电子化学品湿电子化学品(WetChemicals)是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料,广泛用于半导体、显示面板、光伏、LED等电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺杂等工艺环节配套使用,是半导体、显示面板、光伏等制作过程中不可缺少的关键性材料之一从大类来分,一般可划分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品通用湿电子化学品指在半导体、显示面板、光伏等制造工艺中被大量使用的液体化学品,一般为单成份、单功能化学品,具体分为酸类、碱类、有机溶剂类和其他类,产品包括氢氟酸、硫酸、氢氧化钾、氢氧化钠、甲醇、丙酮、过氧化氢等。

    功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品,以光刻胶配套材料为代表,产品有显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等,一般配合光刻胶使用,应用于晶圆制造的涂胶、显影和去胶工艺根据中国电子材料行业协会数据,通用湿电子化学品占比88.2%,其中过氧化氢占比16.7%,氢氟酸占比16%,硫酸占比15.3%,硝酸占比14.3%功能湿电子化学品占比11.8%,其中MEA等极性溶液占比3.2%,显影液(半导体用)占比2.7%,蚀刻液(半导体用)占比2.2%湿电子化学品在集成电路中的应用主要为刻蚀和清洗等,包括硅片、晶圆制造、光罩制作以及封装工艺等,具体分为扩散前清洗、刻蚀后清洗、离子注入后清洗、光罩过程蚀刻清洗、封装TSV清洗、键合清洗等全球湿电子化学品通常执行SEMI国际标准,关键技术指标主要包括金属杂质、控制粒径、颗粒数、IC线宽等根据指标的不同,分为G1-G5共5个等级,等级越高精细度越高湿电子化学品在下游应用领域的标准有所不同,其中光伏和分立器件集中在G1级,面板集中在G2-G4级,集成电路对纯度要求最高,集中在G3-G5级,而且晶圆尺寸越大对纯度要求越高,12英寸晶圆制造通常需要G4-G5级。

    全球及中国湿电子化学品市场规模呈稳步增长态势根据智研咨询数据,全球湿电子化学品(通用+功能)市场规模2011年为25.3亿美元,2020年为56.8亿美元;中国湿电子化学品市场规模2011年为27.8亿元,2021年为137.8亿元,预计2022年将达到163.9亿元,2028年将达到301.7亿元需求量方面,根据中国电子材料行业协会数据,2021年全球湿电子化学品需求量为458.3万吨,半导体需求量209万吨,显示面板需求量167.2万吨,光伏等其他需求量82.1万吨预计到2025年全球湿电子化学品需求量将达到697.2万吨,半导体需求量313万吨,显示面板需求量244万吨,光伏等其他需求量140.2万吨2021年中国湿电子化学品需求量为213.5万吨,半导体需求量70.3万吨,显示面板需求量77.8万吨,光伏需求量65.4万吨预计到2025年中国湿电子化学品需求量将达到369.6万吨,半导体需求量106.9万吨,显示面板需求量149.5万吨,光伏需求量113.1万吨分应用领域来看,根据中国电子材料行业协会数据,中国集成电路用湿电子化学品市场规模2021年为52.1亿元,预计到2025年将达到69.8亿元;中国显示面板用湿电子化学品市场规模2021年为62.3亿元,预计到2025年将达到126.5亿元。

    四、 大力推进区域开放合作积极参与淮河生态经济带建设全面落实《淮河生态经济带发展规划》和《安徽省贯彻落实淮河生态经济带发展规划实施方案》,推进生态文明建设和高质量发展坚持把生态保护和环境治理放在首要位置,建立健全跨区域生态建设和环境保护联动机制,统筹上中下游开发建设与生态环境保护,突出重点生态环境问题整改,强化涡河干支流水污染治理,加快形成绿色发展方式和生活方式加强分工协作,着力培育新技术、新产业、新业态,推动产业跨界融合发展,加快农副产品深加工等传统产业转型升级,壮大提升现代中医药等战略性新兴产业加快沿淮铁路、高速公路和物流运输体系建设,加速推进亳州—蒙城(蚌埠)城际铁路前期工作,实施国省干线公路扩容改造和重点航道治理工程,促进基础设施互联互通扎实推进中原城市群协同发展积极落实国家《中原城市群发展规划》和《中原城市群发展规划安徽省实施方案》,坚持中原城市群核心发展区战略定位,健全会商机制和工作推进机制,协同推进基础设施互联互通,深化产业体系分工合作,加强生态环境共保共治,促进公共服务共建共享积极谋划平顶山—漯河—周口—亳州—宿州客运专线、禹亳铁路以及亳州—鹿邑、亳州—夏邑、亳州—虞城快速通道,加快推进亳州—许昌城际铁路前期工作,升级改造311国道亳州—永城段,加大对周边河南所辖市县的辐射作用,打造省际毗邻区域中心城市。

    发挥亳州作为连接长三角和中原地区的节点城市作用,依托现代中医药特色产业优势,进一步深化与周边市县在产业链、供应链等方面合作,探索园区共建,实现优势互补、组团发展加强与商丘、周口、阜阳、宿州、淮北等周边城市在大气、水、土壤污染等方面开展联防联控联治,确保涡河等跨界水环境水质达到水功能区水质目标要求深入实施长江经济带发展战略坚持共抓大保护、不搞大开发,以改善生态环境、推进绿色发展为主线,以解决突出生态环境问题为突破口,构建生态系统健康、环境质量优良、资源利用高效的区域性河流绿色发展体系纵深推进“三大一强”专项攻坚行动,突出重点生态环境问题整改,构建分级管控体系,持续推进“禁新建、减存量、关污源、进园区、建新绿、纳统管、强机制”七大行动,加快推进涡河、西淝河、北淝河、芡河、茨淮新河等主要河流岸线绿化、美化、生态化全面治理“散乱污”企业,坚决淘汰关停落后产能,严格控制污染物排放围绕船舶码头污染、入河排污口、城镇污水垃圾、农业面源污染、固体废物污染治理等重点领域,深入开展专项整治,提升污染治理水平巩固开发区优化整合成果,强化开发区环境基础设施建设,实现开发区企业污水处理、环保设施运行和环保数据监测全覆盖,推动传统产业“四化”转型,打造具有核心竞争力的新兴产业集群。

    推行生态复绿补绿增绿,强化重点河湖湿地保护和修复,加强生物多样性保护到2025年,打造水清岸绿产业优美丽长江(安徽)经济带亳州样板贯彻落实黄河流域生态保护和高质量发展战略坚持生态优先、绿色发展,因地制宜、分类施策,共同抓好大保护,协调推进大治理突出抓好水土保护和污染治理,推进实施一批重大生态保护修复和建设工程,提升水源涵养能力坚持以水定城、以水定地、以水定人、以水定产,把水资源作为最大的刚性约束,合理规划人口、城市和产业发展,推动用水方式由粗放向节约集约转变大力发展现代农业,不断提升农产品质量和效益,有力保障国家粮食安全第四章 市场预测一、 封装材料芯片封装工艺流程包括来料检查、贴膜、磨片、贴片、划片、划片检测、装片、键合、塑封、打标、切筋打弯、品质检验,最终是产品出货在这一过程中,就需要用到封装基板、引线框架、键合丝、包封材料、陶瓷基板、粘接材料等封装材料,这些材料是芯片完成封装出货的重要支撑传统的IC封装采用引线框架作为IC导通线路与支撑IC的载体,连接引脚于导线框架的两旁或四周,如四侧引脚扁平封装(QuadFlatPackage,简称QFP)、方形扁平无引脚封装(QuadFlatNo-leads,简称QFN)等。

    随着技术发展,IC的线宽不断缩小,集成度稳步提高,IC封装逐步向着超多引脚、窄节距、超小型化方向发展20世纪90年代中期,一种以球栅阵列封装(BallGridArray,简称BGA)、芯片尺寸封装(ChipScalePackage,简称CSP)为代表的新型IC高密度封装形式问世,从而产生了一种新的封装载体——封装基板在高阶封装领域,封装基板已取代传统引线框架,成为芯片封装中不可或缺的一部分,不仅为芯片提供支撑、散热和保护作用,同时为芯片与PCB母板之间提供电子连接,起着“承上启下”的作用;甚至可埋入无源、有源器件以实现一定系统功能封装基板在HDI板的基础上发展而来,是适应电子封装技术快速发展而向高端技术的延伸,作为一种高端的PCB,封装基板具有高密度、高精度、高性能、小型化及薄型化等特点根据Prismark数据,2021年全球PCB行业产值为804.49亿美元,同比增长23.4%,预计2021-2026年全球PCB行业的复合增长率为4.8%下游应用中,通讯占比32%,计算机占比24%,消费电子占比15%,汽车电子占比10%,服务器占比10%从产品结构来看,IC封装基板和HDI板虽然占比不高,分别占比17.6%和14.7%,但却是主要的增长驱动因素。

    2021年全球IC封装基板行业整体规模达141.98亿美元、同比增长39.4%,已超过柔性板成为印制电路板行业中增速最快的细分子行业2021年中国IC封装基板(含外资厂商在国内工厂)市场规模为23.17亿美元、同比增长56.4%,仍维持快速增长的发展态势预计2026年全球IC封装基板、HDI板的市场规模将分别达到214.35/150.12亿美元,2021-2026年的CAGR分别为8.6%/4.9%预计2026年中国市场IC封装基板(含外资厂商在国内工厂)市场规模将达到40.19亿美元,2021-2026年CAGR为11.6%,高于行业平均水平封装基板与传统PCB的不同之处在于两大核心壁垒:加工难度高、投资门槛高从产品层数、厚度、线宽与线距、最小环宽等维度看,封装基板未来发展将逐步精密化与微小化,而且单位尺寸小于150*150mm,是更高端的PCB,其中线宽/线距是产品的核心差异,封装基板的最小线宽/线距范围在10~130μm,远远小于普通多层硬板PCB的50~1000μm目前全球封装基板厂商主要分布在日本、韩国和中国台湾,根据Prismark和集微咨询数据,2020年封装基板市场格局较为分散,中国台湾厂商欣兴电子/南亚电路/景硕科技/日月光材料占比分别为15%/9%/9%/4%,产品主要有WB和FC封装基板;日本厂商揖斐电/新光电气/京瓷占比分别为11%/8%/5%,产品主要为FC封装基板;韩国厂商三星电机/信泰电子/大德电子占比分别为10%/7%/5%,产品主要为FC封装基板。

    二、 硅片硅基半导体材料是目前产量最大、应用最广的半导体材料,通常将95-99%纯度的硅称为工业硅沙子、矿石中的二氧化硅经过纯化,可制成纯度98%以上的硅;高纯度硅经过进一步提纯变为纯度达99.9999999%至99.999999999%(9-11个9)的超纯多晶硅;超纯多晶硅在石英坩埚中熔化,并掺入硼(P)、磷(B)等元素改变其导电能力,放入籽晶确定晶向,经过单晶生长,便生长出具有特定电性功能的单晶硅锭单晶硅的制备方法通常有直拉法(CZ)和区熔法(FZ),直拉法硅片主要用在逻辑、存储芯片中,市占率约95%,区熔法硅片主要用在部分功率芯片中,市占率约4%熔体的温度、提拉速度和籽晶/石英坩埚的旋转速度决定了单晶硅锭的尺寸和晶体质量,掺杂的硼(P)、磷(B)等杂质元素浓度决定了单晶硅锭的电特性单晶硅锭制备好后,再经过切段、滚磨、切片、倒角、抛光、激光刻、包装后,便成为硅片根据纯度不同,分为半导体硅片和光伏硅片,半导体硅片要求硅含量为9N(99.9999999%)-11N(99.999999999%),而光伏用硅片一般在4N-6N之间即可,下游应用主要包括消费电子、通信、汽车、航空航天、医疗、太阳能等领域。

    硅片制备好之后,再经过一列热处理、光刻、刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP、测试等环节,便可成功制得硅晶圆,具体分为几部分:1)晶圆:制作半导体集成电路的核心原料板;2)Die:晶圆上有很多小方块,每一个正方形是一个集成电路芯片;3)划线:这些芯片之间实际上有间隙,这个间距叫做划线,划线的目的是在晶圆加工后将每个芯片切割出来并组装成一个芯片;4)平区:引入平区是为了识别晶圆结构,并作为晶圆加工的参考线由于晶圆片的结构太小,肉眼无法看到,所以晶圆片的方向就是根据这个平面区域来确定的;5)切口:带有切口的晶圆最近已经取代了平面区域,因为切口晶圆比平区晶圆效率更高,可以生产更多的芯片半导体硅片通常可以按照尺寸、工艺两种方式进行分类按照尺寸分类,半导体硅片的尺寸(以直径计算)主要包括23mm、25mm、28mm、50mm(2英寸)、75mm(3英寸)、100mm(4英寸)、125mm(5英寸)、150mm(6英寸)、200mm(8英寸)与300mm(12英寸)等规格自1960年生产出23mm的硅片之后,硅片尺寸就越来越大,到2002年已经可以量产300mm(12英寸)硅片,厚度则达到了历史新高775μm。

    当硅片尺寸越大,单个硅片上的芯片数量就越多,从而能够提高生产效率、降低生产成本300mm硅片是200mm硅片面积的2.25倍,生产芯片数量方面,根据SiliconCrystalStructureandGrowth数据,以1.5cm×1.5cm的芯片为例,300mm硅片芯片数量232颗,200mm硅片芯片数量88颗,300mm硅片是200mm硅片芯片数量的2.64倍根据应用领域的不同,越先进的工艺制程往往使用更大尺寸的硅片生产因此,在摩尔定律的驱动下,工艺制程越先进,生产用的半导体硅片尺寸就越大目前全球半导体硅片以12英寸为主,根据SEMI数据,2020年全球硅片12英寸占比69%,8英寸占比24%,6英寸及以下占比7%未来随着新增12英寸晶圆厂不断投产,未来较长的时间内,12英寸仍将是半导体硅片的主流品种,小尺寸硅片将逐渐被淘汰,但是8英寸短期仍不会被12英寸替代目前量产硅片止步300mm,而450mm硅片迟迟未商用量产,主要原因是制备450mm硅片需要大幅增加设备及制造成本,但是SEMI曾预测每个450mm晶圆厂单位面积芯片成本只下降8%,此时晶圆尺寸不再是降低成本的主要途径,因此厂商难以有动力投入450mm量产。

    全球8英寸和12英寸硅片下游应用侧重有所不同,根据SUMCO数据,2020年8英寸半导体硅片下游应用中,汽车/工业/智能手机分列前3名,占比分别为33%/27%/19%;2020年12英寸半导体硅片下游应用中,智能手机/服务器/PC或平板分列前3名,占比分别为32%/24%/20%按照制造工艺分类,半导体硅片分为抛光片、外延片以及SOI硅片单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后,便得到抛光片抛光片本身可直接用于制作半导体器件,广泛应用于存储芯片与功率器件等,此外也可作为外延片、SOI硅片的衬底材料外延是通过CVD的方式在抛光面上生长一层或多层掺杂类型、电阻率、厚度和晶格结构都符合特定器件要求的新硅单晶层因此外延片是抛光片经过外延生长形成的,外延技术可以减少硅片中因单晶生长产生的缺陷,具有更低的缺陷密度、含碳量和含氧量,能够改善沟道漏电现象,提高IC可靠性,被广泛应用于制作通用处理器芯片、图形处理器芯片如果生长一层高电阻率的外延层,还可以提高器件的击穿电压,用于制作二极管、IGBT等功率器件,广泛应用于汽车电子、工业用电子领域SOI是绝缘层上硅,核心特征是在顶层硅和支撑衬底之间引入了一层氧化物绝缘埋层,能够实现全介质隔离,大幅减少了硅片的寄生电容以及漏电现象,并消除了闩锁效应。

    SOI硅片是抛光片经过氧化、键合或离子注入等工艺处理后形成的,特点是寄生电容小、短沟道效应小、低压低功耗、集成密度高、速度快、工艺简单、抗宇宙射线粒子的能力强,因此适用于制造耐高压、耐恶劣环境、低功耗、集成度高的芯片,如射频前端芯片、功率器件、汽车电子、传感器以及星载芯片等,尤以射频应用最为广泛SOI硅片价格高于一般硅片4至5倍,主要应用中,5G射频前端(RF-SOI)占比60%,Power-SOI和PD-SOI各占20%市场规模方面,根据SEMI数据,全球半导体硅片(不含SOI硅片)市场规模在经历了2015-2016年低谷之后,开始稳步上升,到2021年已达到126.2亿美元受益于中国大陆晶圆厂扩产的拉动,中国大陆半导体硅片(不含SOI硅片)市场规模2012年为5亿美元,2017开始迅速增长,2021年已达到为16.6亿美元出货面积方面,根据SEMI数据,全球半导体硅片(不含SOI硅片)2012年出货面积为90亿平方英寸,2020年为122.6亿平方英寸,2021年为141.7亿平方英寸单位面积硅片价格2009年为1美元/平方英寸,2016年下降到0.68美元/平方英寸,2021年回暖至0.99美元/平方英寸。

    SOI硅片方面,由于应用场景规模较小,整体行业规模小于抛光片和外延片,根据SEMI及ResearchandMarkets数据,2013年全球市场规模为4亿美元,2021年为13.7亿美元,预计到2025年将达到22亿美元中国大陆SOI硅片市场规模2016年为0.02亿美元,2018年增长至0.11亿美元根据Soitec数据,随着通信技术从3G向4G、5G升级过程中,单部智能手机SOI硅片需求面积亦随之增加,3G时为2mm2,4GLTE-A为20mm2,5Gsub-6GHz为52mm2,5Gsub-6GHz&mmW为130mm2在射频前端模组领域,在4G/5G(sub-6G)中,RF-SOI用于低噪声放大器、开关以及天线调谐器等,FD-SOI用于追踪器;在毫米波中,RF-SOI用于功放、低噪声放大器、开关以及移相器,FD-SOI可用于移相器、SoC等;而在WiFi和UWB中,RF-SOI用于功放、低噪声放大器以及开关,FD-SOI用于移相器、SoC等产能方面,根据ICInsights数据,2018年全球半导体硅片2.23亿片,2020年增长至2.6亿片,保持稳步增长态势在目前芯片供不应求的背景下,晶圆厂扩产将进一步推升硅片产能。

    2020年全球硅片主要厂商中,前7大厂商合计占比94.5%,其中日本信越化学占比27.5%,排名第1;日本胜高占比21.5%,排名第2;中国台湾环球晶圆占比14.8%,排名第3;德国世创占比11.5%,排名第4;韩国SKSiltron占比11.3%,排名第5;法国Soitec占比5.7%,排名第6;中国大陆厂商沪硅产业占比2.2%,排名第7,也是唯一进入全球前7的中国大陆厂商三、 半导体材料行业规模根据SEMI数据,2006-2021年全球半导体材料市场规模呈现波动并整体向上的态势,在2017年后,受益于消费电子、5G、汽车电子、IoT等需求拉动,行业规模呈上升趋势,2021年创历史新高,达到643亿美元,预计2022年将达到698亿美元,同比增长8.6%,预计2023年将超过700亿美元分类型看,半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料,根据SEMI数据,2006-2021年,晶圆制造材料市场规模稳步提升,从217亿美元提升至404亿美元,占比从58.3%提升至62.8%;封装材料市场规模先升后降,从2006年的155.4亿美元提升至2011年的236.2亿美元高点之后,到2020年下降至204亿美元,2021年又上升至239亿美元,占比37.2%。

    预计2022年晶圆制造材料市场规模将达到451亿美元,同比增长11.5%,封装材料将达到248亿美元,同比增长3.9%分国家/地区看,日本整体稳中略降,2021年为88.1亿美元,占比13.7%;北美维持基本稳定,2021年为60.4亿美元,占比9.4%;欧洲先降后升,2021年为44.1亿美元,占比6.9%;韩国整体呈上升趋势,2021年为105.7亿美元,占比16.4%;中国台湾亦呈上升趋势,2021年为147.1亿美元,占比22.9%,为全球半导体材料市场规模最高的地区;中国大陆增速最快,从2006年至2021年增长超过4倍,2021年为119.3亿美元,占比18.6%2021年中国半导体材料市场规模266.4亿美元,占比41.4%,为全球半导体材料市场规模最高的国家在中美贸易战背景下,半导体国产替代已经成为产业共识,半导体材料作为晶圆制造及封装工艺的关键上游环节,国产厂商有望充分受益于中国晶圆厂扩产以及自主可控的红利,景气度持续提升第五章 建筑工程可行性分析一、 项目工程设计总体要求1、建筑结构设计力求贯彻“经济、实用和兼顾美观”的原则,根据工艺需要,结合当地地质条件及地需条件综合考虑。

    2、为满足工艺生产的需要,方便操作、检修和管理,尽量采取厂房一体化,充分考虑竖向组合,立求缩短管线,降低能耗,节约用地,减少投资3、为加快建设速度并为今后的技术改造留下发展空间,主厂房设计成轻钢结构,各层主要设备的悬挂、支撑均采用钢结构,实现轻型化,并满足防腐防爆规范及有关规定二、 建设方案(一)结构方案1、设计采用的规范(1)由有关主导专业所提供的资料及要求;(2)国家及地方现行的有关建筑结构设计规范、规程及规定;(3)当地地形、地貌等自然条件2、主要建筑物结构设计(1)车间与仓库:采用现浇钢筋混凝土结构,砖砌外墙作围护结构,基础采用浅基础及地梁拉接,并在适当位置设置伸缩缝2)综合楼、办公楼:采用现浇钢筋砼框架结构,(二)建筑立面设计为使建筑物整体风格具有时代特征,更加具有强烈的视觉效果,更加耐人寻味、引人入胜建筑外形设计时尽可能简洁明了,重点把握个体与部分之间的比例美与逻辑美,并注意各线、。

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