无裂纹镀铬和双层硬铬涂层的比较

无裂纹镀铬和双层硬铬涂层的比较在这项研究中,标准的单层无裂纹镀铬和双层和无裂纹硬铬涂层制备使用直流电(DC)和脉冲电流（PC）低碳钢基体上电镀过程 研究了涂层的显微组织、显微硬度和耐蚀性的观点 涂层的腐蚀抗性相比已经通过电化学极化在3.5％氯化钠溶液和标准盐雾试验 腐蚀测试前后的显微结构的表征测试是通过光学显微镜（OM)、扫描电镜(SEM) 硬铬的微观裂纹密度、显微组织、利用脉冲电流电沉积可能是有限的 无裂纹硬铬涂层,它由PC-electroplating沉积,是优良的耐腐蚀性能. 双涂层的厚度比与无裂口子层和硬铬表面涂层厚，也分别由PC —和DC—electroplating流程标准镀铬浴. 标准硬铬涂层沉积到DC-electroplating已经锈渍的表面和边缘. 无裂纹子层的涂料在耐腐蚀涂料表现出非常好的业绩,没有腐蚀产物的表面和边缘样本5％氯化钠溶液由DC—electroplating Cr—deposited低于标准. 所有的涂料钝化在3.5％氯化钠溶液和盐雾测试环境 此外，双层涂料，涂层之间的比率的75％无裂纹层（破碎硬顶层25％）显示最好的耐腐蚀性能►微裂纹可以通过使用脉冲电流电沉积中删除. ►裂口硬铬涂层是优良的耐腐蚀性能. ►双涂层制备PC —和DC—electroplating流程. ►双涂层表现出优异的耐腐蚀的结果。

►在生理盐水环境中所有的涂料钝化1，双层铬工艺及流程同一镀液两种镀槽中电沉积制备乳白/光亮双层铬镀层.工艺流程为：前处理─装挂─入槽─镀乳白耐蚀铬─镀光亮耐磨铬─出槽─清洗─除氢─抛光─检验镀液组成为:CRO3 200 -250G/L，H2SO4 2.2 -26G/CR3+离子2.0 —35 G/先在60 —65 °C、15 —25 A/DM2 下施镀30 分钟得到乳白铬镀层,随后在55 -60 °C 40 —50 A/DM2镀90 分钟，即得乳白/光亮双层铬镀层双层铬镀层的孔隙率比单层光亮铬镀层小，二者显微硬度相近，耐磨性优越实际生产应用表明，双层铬镀层的耐蚀性优于单层光亮铬镀层得到的铬为乳白色，无光泽乳白铬镀层孔隙很少,耐蚀性好，但硬度稍低，不能作为最终硬铬层而光亮耐磨铬层的显微硬度为600 —900 HV ，完全满足零件硬化层的硬度要求，同时镀层光亮,满足产品外观要求2，无裂纹镀铬工艺项目最佳铬酸200-350G/L硫酸2-3DW-032脉冲催化剂1—3％（体积）DW-032镀铬添加剂10—20ml/l三价铬1-6g/l金属污染物〈50克/升氯化物<20 PPM●板微裂纹，无裂纹和多相存款在同一镀槽的能力。

双层铬必须在两槽●存款厚度可达0.100“每边是可能的 双层铬必须大于03即三丝●硬度70 RC具有出色的亮度和耐磨性. 底硬度低，长时间不耐磨●耐腐蚀500小时的盐雾小于0.002“存款 96小时●极低的存款压力和高沉积率 沉积率低●优异的附着力，多相位存款无边界线 附着力一般 工艺规范:铬酐:250-300g/l 最佳值280硫酸：1.8—25g/l 三价铬:2.5-5g/l添加剂A(DW—032A）：10—20ml/l 添加剂B(DW—032B)：10g/l无氟抑雾剂C（ DW—026）： 005～015ml/l 温度：45—59°注意温度不要过高电流密度：35-90A/dm2电流效率：30—35KAH消耗 A 50ml/l B 025- 05g/l 无氟抑雾剂C 0.01ml/l100kg铬酐需加入A 3-5kg， B 0.5- 1kg C100ml文中如有不足，请您指教！3 / 3。